光刻机/键合机 品名 应用范围 图示 单面/双面对准 光刻机 主要应用：MEMS、先进封装、化合物半导体、光电器件、光电显示、生物 芯片等做微米级和亚微米级图形，尤其在厚胶、碎片、边缘曝光等特殊工 艺有明显优势     电子束曝光机 主要应用于掩膜板制作、微纳、化合物半导体领域   纳米压印设备 主要应用于LED蓝宝石图形化、微流控芯片、纳米光栅、LCD光电显示、光 学器件、生物传感器、硬盘等领域   EVG键合机 主要应用：MEMS制造、CMOS图像传感器、存储器、声波器件、微流体芯片 、化合物半导体的异质结键合、晶圆级先进封装、3D互联（TSV)等领域   光刻机/键合机 图示->